| 1 | 通用电子束曝光机系统采购项目 | 用于硅基器件的图形加工，实现微纳图形的曝光及套刻对准，支持各类正胶、负胶工艺。包括：1套通用电子束曝光机。 | 1,836 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 2 | 场发射透射电子显微镜采购项目 | 主要用于材料的高分辨形貌观察、微区的晶体结构分析和成分分析。系统有电子光学系统、高压系统、真空系统、扫描透射单元(STEM)、热电原位实验样品杆、电制冷能谱仪、数字成像系统等部分组成。包括：1套场发射透射电子显微镜。 | 940 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 3 | 扫描型显微及加工系统采购项目 | 该系统用于材料的表征测试和微纳加工工作。可进行材料表面形貌、晶体结构和元素表征，薄膜样品加工，表面图案化加工，原位电化学实验。包括：1套场发射扫描型电子显微镜，1套聚焦离子束/电子束系统。 | 1,571 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 4 | 扫描电子显微镜及电子束曝光系统采购项目 | 用于表面图案化掩模的快速加工，可对加工情况进行原位扫描电子显微观察。包括：1套扫描电子显微镜及电子束曝光系统。 | 218 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 5 | 激光直写系统采购项目 | 主要用于无掩膜直接曝光转移微结构图案，将设计图形线路利用激光直写在涂有光刻胶之芯片、玻璃基板或陶瓷基板等基板上，适用于单片及不规则小片的无掩膜光刻工艺。主要有：掩膜板制作功能、光刻胶直写功能、线宽距离测量功能、套刻直写功能、三维灰阶光刻功能。包括：1套激光直写系统。 | 710 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 6 | 椭偏仪采购项目 | 主要用途为测量薄膜的厚度及光学常数，也可以测量体材料的光学常数，相位延迟等。探测低达百分之一纳米的膜厚变化，材料的不同组分、掺杂、工艺不稳定导致的孔洞、各向异性倾向、折射率梯度分布等信息。包括：1套椭偏仪。 | 222 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 7 | 光学性能表征系统 | 用于测量元件的光学参数。包括：1套UV紫外可见近红外分光光度计；3套偏振测量仪；3套光束质量分析仪； 4套任意波形发生器。 | 113 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 8 | 微纳结构加工刻蚀系统采购项目 | 用于在衬底表面生长功能层和样品刻蚀加工。包括：1套深硅刻蚀机；1套感应耦合等离子刻蚀机；1套反应离子刻蚀机；1套射频离子束刻蚀机；1套等离子体增强化学气相沉积系统。 | 1,157 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 9 | 薄膜生长系统采购项目 | 用于在衬底表面生长金属，介质及半导体等薄膜。包括：1套磁控溅射设备；1套电子束蒸发设备。 | 389 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 10 | 原子层沉积系统采购项目 | 原子层沉积主要用于沉积氧化物、氮化物及金属薄膜，主要应用于半导体器件、OLED、玻璃强化、太阳能电池钝化层、微米纳米颗粒功能性包裹、银器的防氧化处理、高精度光学玻璃镀膜和锂电池等。包括：1套原子层沉积系统。 | 140 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 11 | 液晶曝光系统采购项目 | 用于大尺寸高精度液晶元件微结构加工。包括：1套300mm口径偏振光栅曝光系统；1套100mm口径超小周期偏振光栅曝光系统；1套液晶平板透镜曝光系统。 | 526 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 12 | 全自动匀胶机采购项目 | 用于大尺寸液晶元件材料涂布。包括：1套直线式自动匀烤一体机；1套全自动匀胶UV一体机。 | 407 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 13 | 液晶批量加工线采购项目 | 用于大尺寸液晶元件批量加工（含摩擦、表面处理、灌晶、切割、膜厚测试等）。包括：1套摩擦机；1套边框UV固化机；1套玻璃切割机；1套灌晶机；1套PI前烘干机/UVO 清洗机；1套膜厚测试仪；1套打线机。 | 322 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 14 | 大口径光源采购项目 | 用于大口径液晶元件均匀结构加工和固化。包括：4套大口径平行光源。 | 84 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 15 | 超声波清洗机采购项目 | 用于大尺寸玻璃基片批量清洗。包括：1套全自动超声波清洗机。 | 61 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 16 | 液晶元件表征系统采购项目 | 用于液晶元件结构观察和使用性能测试。包括：1套干涉仪；2套偏光显微镜； | 205 | 2024-12 | 否 | 否 | |
| 17 | 光学平台及套件采购项目 | 用于搭建加工和测试系统。包括：光学平台，批量光机械件套件，光学元件套件。 | 76 | 2024-12 | 否 | 否 | |
您当前的位置：